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铜银浸出工序(b1)在步骤(a1)所得含其它金属的滤渣中加入到硫酸和的混合溶液中浸出铜离子和银离子,然后过滤得含金钯的滤渣和含铜银的滤液;其中,所述的浓度为5~10g/l,且所述硫酸和的混合溶液的酸度为20%~30%;(b2)于步骤(b1)所得含铜银的滤液中加入氯化钠得到氯化银沉淀,过滤分离得到银和含铜滤液;其中,所述氯化钠加入的摩尔量为ag+理论摩尔量的1.02~1.2倍;(b3)在步骤(b2)所得含铜滤液中加入沉铜剂,即可分离得到铜;其中,所述沉铜剂为硫化钠或硫化钾,所述硫化钠或硫化钾加入的摩尔量为cu2+理论摩尔量的1.02~1.2倍;
采用氯酸钠在酸性条件下的氯化法浸出金、钯,通过实验确定了无氰浸出液选的配比和适宜的分金工艺条件如下表:金浸出液成分名称组成(g/l)硫酸100氯酸钠30过氧化氢5表7金浸出工艺条件选用恰当还原性能的还原剂,可以有效避免溶液中的杂质元素进入金粉中,影响金粉的质量。还原剂的纯度要求严格,尽量避免带入其他杂质。常用的还原剂有草酸、甲醛、亚硫酸氢钠、氯化亚铁、亚硫酸钠等。由于草酸的选择性好,草酸还原金时,溶液中的pt、pd不易被还原;而亚硫酸钠还原金的速率快,产品纯度高;亚硫酸氢钠还原金时,金粉容易沉淀。这三种金还原剂各有特,选择草酸、亚硫酸钠和亚硫酸氢钠作为金还原剂,其使用的摩尔量是金的理论摩尔量的1.5~2倍。
金钯无氰浸出工序(c1)于步骤(b1)所得含金钯的滤渣中加入无氰浸出液浸出金离子和钯离子,然后加入金还原剂将金离子还原,过滤分离得到金和含钯离子的滤液;其中,所述无氰浸出液以水为溶剂,其中各组分的浓度如下:h2so480~120g/l、氯酸钠20~40g/l以及过氧化氢3~7g/l;所述金还原剂为草酸、亚硫酸钠或亚硫酸氢钠;(c2)于步骤(c1)得到的含钯离子的滤液中加入锌粉,置换还原得到钯;优选地,中,所述破碎的具体操作为:首先利用粉碎机将芯片和贴片元器件粉碎,然后球磨至200目。