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  手机的表面焊接技术的性由于手机元件的安装形式采用了表面贴装技术,手机线路板采用高密度合成板,正反两面都有元件,元器件贴装在线路板两面,线路板通过焊锡与元件产生拉力而固定,且贴装元件集成芯片管脚众多,密集,焊锡又少,这样如果不小心摔碰或手机受潮都易使元件造成虚焊或元件与线路板接触不良造成手机各种各样的故障。手机属于个人消费品,它要随使用者位置的变换而移动,这就要求手机要适应不同的环境,虽然设计人员为手机的适应性作了专门设计,但还是避免不了因使用时间过长或因环境温度不当而造成手机各种故障。其主要表现,一是进水受潮,使元器件受腐蚀,缘程度下降,控制电路失控,造成逻辑系统工作紊乱,软件程序工作不正常,严重的直接造成手机不开机。二是受外力作用,表现为元器件脱焊、脱落、接触不良等。

  与原生矿产相比,手机中贵金属含量较高,天然金矿的含量即品位低至3g/t也具有较大的开采价值,即使经选矿得到的金精矿也只有70g/t左右,而报废手机中的金含量可达60~400g/t。手机中的钯含量可达10~20g/t。废旧手机中的贵金属含量受到手机品牌、生产日期、工艺等影响较大,据报道,每吨iphone里面的金含量约为302g,银为3023g,铜为128.6kg;荷兰delft技术大学开展的研究表明1999~2003年间的手机中贵金属含量为:金0.038%,银0.244%,铜14.24%,钯0.015%,且贵金属含量有降低趋势,2003年手机中金、银、铜、钯的含量相比1999年分别降低了25.7%,51.8%,22%和31%。

  其中,所述氧化剂优选过氧化氢,且以理论上sn2+的摩尔量为基础,过氧化氢添加的摩尔量是理论上sn2+的摩尔量的1.02~1.5倍。本发明通过实验确定锡沉淀处理中适宜的ph值,筛选合适的氧化剂,确定其添加量,以氧化剂与sn2+的摩尔量之比表示,适宜的工艺条件如表4所示。表4离子水解沉淀的工艺条件四、铜银浸出工序工艺参数确定上述进行锡浸出提取工序以后得到的含其它金属的滤渣,将所述滤渣以固液比1∶3~7加入到硫酸和的混合溶液中,所述的浓度为5~10g/l且所述混合溶液的酸度为20%~30%,温度控制在80~100℃之间,时间1~3h,由此浸出铜离子和银离子,然后过滤得含金钯的滤渣和含铜银的滤液,铜的浸出率高达95%,银的浸出率高达98%;然后于所得含铜银的滤液中添加氯化钠将银沉淀,然后过滤和铜离子分离得到氯化银沉淀和含铜滤液,其中,所述氯化钠加入的摩尔量为ag+理论摩尔量的1.02~1.2倍;

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