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其中,所述氧化剂优选过氧化氢,且以理论上sn2+的摩尔量为基础,过氧化氢添加的摩尔量是理论上sn2+的摩尔量的1.02~1.5倍。本发明通过实验确定锡沉淀处理中适宜的ph值,筛选合适的氧化剂,确定其添加量,以氧化剂与sn2+的摩尔量之比表示,适宜的工艺条件如表4所示。表4离子水解沉淀的工艺条件四、铜银浸出工序工艺参数确定上述进行锡浸出提取工序以后得到的含其它金属的滤渣,将所述滤渣以固液比1∶3~7加入到硫酸和的混合溶液中,所述的浓度为5~10g/l且所述混合溶液的酸度为20%~30%,温度控制在80~100℃之间,时间1~3h,由此浸出铜离子和银离子,然后过滤得含金钯的滤渣和含铜银的滤液,铜的浸出率高达95%,银的浸出率高达98%;然后于所得含铜银的滤液中添加氯化钠将银沉淀,然后过滤和铜离子分离得到氯化银沉淀和含铜滤液,其中,所述氯化钠加入的摩尔量为ag+理论摩尔量的1.02~1.2倍;
首先需要的是一个安静的环境,不要在嘈杂的地方进行维修;在工作台上铺一张起缘作用的厚黑橡胶片;准备一个有许多小抽屉的元件架,可以放相应的配件,和拆机过程中的零件,准备一个工作台灯、放大镜或显微镜、电烙铁、万用表、稳压源和示波器;注意把仪器的地线都接在一起,静电损伤手机的CMOS电路;每次在拆机器前,都触摸二下地线,把人体上的静电放掉,着装要注意,不要穿化纤等容易产生静电的服装进行维修;
得到的含钯离子的滤液输送至沉钯反应槽307内储存并加入锌粉,然后依次通过沉钯离心分离器308和沉钯过滤器309分离得到钯,并将得到的钯输送至钯收集槽3010内储存;将废旧手机电路板拆解为ic芯片和贴片元器件以及光板之后,利用本实用新型提供的处理系统,芯片和贴片元器件分别通过初处理单元、锡处理单元、铜银处理单元和金钯处理单元定向选择性浸出锡、铜银、金钯,可以实现各种金属的有序回收,且有助于提高金属回收率。